在大规模集成电路生产(Produce)的光刻曝光（exposure)工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅(silicon)片的热膨胀(inflate)系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度（temperature)上升1度，就引起了0。24um线性膨胀(inflate)，所以必须有±0。1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠(Sodium)的半导体(semiconductor)车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却(cooling)水管壁上会结露，如果发生在精密(precise)装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。
然而对于大部分净化工程，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。实验台框架一般采用C型方型钢，可靠焊接，经酸洗磷化、电泳后，实验台表面经环氧树脂高压静电粉沫喷涂，高温固化处理。具有良好的防腐性能，紧密强固，承重力强。实验室家具实验室仪器摆放的设计是一个实验室设计中的重点和难点之一。实验仪器的摆放看似简单，可实际上需要考虑的因素非常多。实验仪器是否可以良好安全地运行，是否可以妥善地得到保护，是否可以将环境对其的影响度降到最低，相互之间是否有影响，实验人员是否可以方便地使用等等问题，都是在考虑实验室仪器摆放位置的时候需要关注的问题。净化工程对压力差的维持一般应符合以下原则：
1、洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。实验台主要有全钢结构实验台、钢木结构实验台、铝木结构实验台、全木结构实验台、PP结构实验台等种类，台台面一般采用环氧树脂板、实芯理化板、陶瓷板、大理石板、千思板、不锈钢板等，表面经技术处理，光滑无毛孔，耐酸碱、防腐蚀，铣边处理，台面耐腐蚀、防水均达到实验室行业优质标准。
2、相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间。
3、净化工程昂当中洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。压力差的维持依靠新风量(定义:单位时间内空气的流通量)，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄(或渗透（Osmosis))风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。对于乱流洁净室由于主要靠空气的稀释(dilute)作用来减轻室内污染的程度，所以主要用换气次数这一概念，而不直接用速度的概念，不过净化工程对室内气流速度也有如下要求：
1、送风口出口气流速度不宜太大，和单纯空调房间相比，要求速度衰减(attenuation)更快，扩散角度（angle)更大。
2、吹过水平面的气流速度(例如侧送时回流速度)不宜太大，以免吹起表面微粒重返气流，而造成净化工程的再污染，这一速度一般不宜大干0。2m/s。
